您当前所在位置: 首页 > 学者

 

  • 30浏览

  • 0点赞

  • 0收藏

  • 0分享

  • 76下载

  • 0评论

  • 引用

期刊论文

微拉曼光谱技术及其在微结构残余应力检测中的应用*

亢一澜QIU Yu LEI ZhenKun KANG yiLan HU Ming XU Han NIU HongFan

机械强度,2004,26(4):389-392,-0001,():

URL:

摘要/描述

多孔硅薄膜/硅基底结构是微机电系统(micro-electro-mechanical systern,MEMs)中的一个基本组元,其厚度为微米量级。由于薄膜与基底材料之间存在着晶格错配,在薄膜/基底间的界面上会出现残余应力,严重时会导致裂纹出现而发生断裂。微拉曼光谱法(micro-Raman-spectroscopy,MRS)是近些年来在化学、物理、材料和力学等学科领域迅速发展的光学测量方法。文中对这一方法进行介绍,并且用来测量化学腐蚀多孔硅薄膜结构的残余应力,发现随着孔隙率的增加,多孔硅表面的拉伸应力逐渐增大。特别对某一样品出现裂纹区的拉曼测量表明,在裂纹区的残余应力急剧上升,到了0.92GPa。使用金相显微镜观察不同孔隙率的多孔硅薄膜表面的微观形貌,这种不同程度的微观孔穴结构与残余应力的分布存在着紧密的联系。

【免责声明】以下全部内容由[]上传于[2005年12月22日 17时24分15秒],版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点,与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立,不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考,并请自行承担全部责任。

我要评论

全部评论 0

本学者其他成果

    同领域成果