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李刘合
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期刊论文
直流磁控溅射 Ti-Si-N 超硬纳米复合膜的结构与力学性能
上海交通大学学报，2007，3（3）：452～456，-0001，（）：
采用Ti-Si复合靶在321不锈钢基体上用直流磁控反应溅射方法制得超硬纳米复合Ti-Si-N膜层，并借助能谱 （EDX）、X射线衍射（XRD）、X光电子谱（XPS）、原子力显微镜（AFM）、纳米压入仪和划痕仪对膜层的成分、结构和力学性能进行了分析。 结果表明:随着膜层中Si含量的增加，Ti-Si-N膜的硬度逐渐升高，当a（Si）=11.2%时达到峰值42 GPa；随着Si含量的进一步增长，膜层硬度开始下降。XRD和XPS结果显示，最硬的Ti-Si-N膜层包含大小约为8nm的TiN纳米晶以及包围在其周围的非晶态Si3N4。XRD结果显示，随着Si的引入，膜层中TiN晶粒的择优取向由纯TiN膜层中的（111）变为Ti2Si2N膜层中的（200）。划痕实验也显示了Si的添加对膜层结合力的影响。最后对该纳米复合膜的强化机制进行了探讨。
【免责声明】以下全部内容由[李刘合]上传于[2010年01月04日 14时43分09秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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