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刘世斌
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期刊论文
电沉积铁氰化镍薄膜的电控离子交换性能
化工学报，2005，56（12）：2380～2386，-0001，（）：
采用电沉积方法在不同导电基体上制备出具有电化学控制离子交换（ESIX）性能的电活性NiHCF（nickelhexacyanoferrate）薄膜。在1mol•L-1KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放碱金属离子，比较了铂、铝和石墨基体上薄膜的电活性、离子交换容量及再生能力；在1mol•L-1（KNO3+CsNO3）混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线和电化学交流阻抗谱，分析了薄膜对Cs/K离子的选择性。重点考察了制膜液组成对薄膜电化学性能的影响，通过EDS测定薄膜组成并结合循环伏安曲线分析了薄膜组成和结构与其电化学特性之间的关系。实验表明，3种基体材料上均能制得性能稳定的NiHCF膜，铝和石墨基体上的NiHCF薄膜同样具有良好的ESIX性能；控制制膜液组成可得到不同组分占优的膜，由此可筛选较为理想的ESIX膜材料。
【免责声明】以下全部内容由[刘世斌]上传于[2011年06月10日 14时12分41秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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