目的 评价螺旋体和牙龈卟啉单胞菌各自在产生挥发性硫化物（volatile sulfur compounds, VSCs）， 形成口臭中的作用。方法 对117例牙周炎患者，用鼻闻法评价口臭值（organoleptic rating, OR）后分成口臭组85例，无口臭组32例，用口臭测量仪测量口气中VSCs水平，刚果红负性染色法检测舌苔和龈下菌斑中螺旋体的百分比(S%)，间接免疫荧光法检测牙龈卟啉单胞菌（Porphyromonus gingivalis, Pg）。口臭组46例在牙周基础治疗后重复以上检查。结果 口臭组探诊深度（probing depth, PD）<4mm位点S%明显高于无口臭组（P<0101），而舌苔与PD≥4mm 位点的S%、舌苔与龈下菌斑中的Pg均无差异。口臭组OR、VSCs 水平与舌苔及PD<4mm 位点S%正相关，与PD≥4mm 位点的S%无关；OR值与PD≥4mm位点的Pg呈正相关（P<0105)，与舌苔及PD<4mm位点的Pg无关，而VSCs与3个部位的Pg均无关系；牙周治疗后OR和VSCs水平明显降低，舌苔中的S%、龈下菌斑中的S%及Pg均明显下降（P<0101）。结论 螺旋体是与VSCs及口臭的产生有关的口腔微生物之一，牙周治疗可以改善口臭。