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论文编号 201002-220
论文题目 Sn修饰的Ni/Al2O3对降解N,N-二甲基甲酰胺制氢反应的催化性能
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Sn修饰的Ni/Al2O3对降解N,N-二甲基甲酰胺制氢反应的催化性能

首发时间:2010-02-04

孔令鸟 1    项益智 1    李小年 1   
  • 1、浙江工业大学工业催化研究所

摘要:利用浸渍法制备了一系列不同含量Sn修饰的Ni/Al2O3催化剂(Ni-Sn/Al2O3),并考察了催化剂对降解N,N-二甲基甲酰胺(DMF)制氢反应的催化性能。结果表明,利用Sn修饰Ni/Al2O3催化剂提高了其降解DMF制氢活性,当n(Sn)/n(Ni) = 0.1时H2的产率从Ni/Al2O3催化剂上的43.4 μmol/min提高到69.8 μmol/min。但当Sn含量进一步增加时,DMF转化率和H2产率都明显下降。催化剂的N2物理吸附、X射线衍射(XRD)和H2程序升温还原(H2-TPR)表征结果表明,Ni-Sn/Al2O3催化剂中形成了Ni3Sn2的合金,且Ni-Sn/Al2O3与Sn-Raney Ni催化剂具有相近的晶体结构,但Ni-Sn/Al2O3比Sn-Raney Ni具有更高的比表面积及降解DMF制氢的活性。

关键词: Sn改性Ni/Al2O3 催化降解 DMF 水相重整 制氢

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Catalytic Performance of Sn Modified Ni/Al2O3 for Degradation of N,N-dimethylformamide for H2 Production

Kong Lingniao 1    Xiang Yizhi 1    Li Xiaonian 1   
  • 1、Industrial Catalysis Institute of Zhejiang University of Technology

Abstract:A series of Sn modified Ni/Al2O3 catalyst (Ni-Sn/Al2O3) was prepared by impregnation method. The catalytic performance of the catalyst for the degradation of DMF for hydrogen production was investigated. The results indicated that the modification of Ni/Al2O3 with moderate amounts of Sn improves the activity of the catalyst highly. When the n(Sn)/n(Ni) = 0.1, the rate of hydrogen production increased from 43.4 μmol/min over the Ni/Al2O3 to 69.8 μmol/min over the Ni-Sn0.1/Al2O3. But the addition of large amounts of Sn to Ni/Al2O3 decreased the conversion of DMF highly. The characterization results from the N2 physical adsorption, X-ray diffraction (XRD) and hydrogen temperature programmed reduction (H2-TPR) suggested that Ni3Sn2 phase was formed in the Ni-Sn/Al2O3 catalyst, and the Ni-Sn/Al2O3 and Sn-Raney Ni possesses the similar structures. But the Ni-Sn/Al2O3 shows the higher BET surface area and higher activity for the degradation of DMF for hydrogen production than the Sn-Raney Ni catalyst.

Keywords: Sn modified Ni/Al2O3 catalysts catalytic degradation DMF aqueous phase reforming hydrogen production

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孔令鸟,项益智,李小年. Sn修饰的Ni/Al2O3对降解N,N-二甲基甲酰胺制氢反应的催化性能[EB/OL]. 北京:中国科技论文在线 [2010-02-04]. https://www.paper.edu.cn/releasepaper/content/201002-220.

No.3993251324912652****

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