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论文编号 201301-146
论文题目 掠角沉积技术的应用、理论及工艺方法
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作者之间用逗号“,”分隔,最后为实心圆点“.”,

示例1:原姓名写法:Albert Einstein,编入参考文献时写法:Einstein A.

示例2:原姓名写法:李时珍;编入参考文献时写法:LI S Z.

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Application, Theory and Process of Glancing Angle Deposition

首发时间:2013-01-05

CAO Yongzhi 1   

曹永智,(1971-),男,副教授,微纳制造。

WU Chao 1    HU Zhenjiang 1    YU Fuli 1   
  • 1、Center for Precision Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001

Abstract:Thin film technology has a long history. With the development of nanotechnology, thin film characterized by nanostructure has been a new research hotspot. In recent years, glancing angle deposition (GLAD), as a effective way to build nanosturcture thin film, has gained significant attention due to a manifold of possible applications, such as photonic crystals, humidity or pressure sensors and energy. This review summarizes the typical application, theory and method of GLAD.

keywords: Nanotechnology Glancing angle deposition nanostructure thin film

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掠角沉积技术的应用、理论及工艺方法

曹永智 1   

曹永智,(1971-),男,副教授,微纳制造。

吴超 2    胡振江 2    于福利 2   
  • 1、哈尔滨工业大学精密工程研究所,哈尔滨 150001
  • 2、Center for Precision Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001

摘要:薄膜技术有着悠久的历史。随着纳米技术的不断发展,纳米结构薄膜再次成为研究热点。近些年来,作为构筑纳米结构薄膜的有效方法,掠角沉积技术引起了研究人员的广泛关注。该技术在光子晶体制备,湿度或压力传感器以及能源领域都有很大的应用背景。本文对掠角沉积技术的典型应用,基础理论以及工艺方法进行了综述。

关键词: 纳米技术 掠角沉积 纳米结构薄膜

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CAO Yongzhi,WU Chao,HU Zhenjiang,et al. Application, Theory and Process of Glancing Angle Deposition[EB/OL]. Beijing:Sciencepaper Online[2013-01-05]. http://www.paper.edu.cn/releasepaper/content/201301-146.

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