光电化学制备相干多孔硅等径控制技术研究

刘微; 端木庆铎

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光电化学制备相干多孔硅等径控制技术研究

首发时间：2016-12-16

刘微 ¹
刘微(1990-),女,硕士研究生,光电成像器件与系统
端木庆铎 ¹
端木庆铎（1956-），男，教授，博士生导师,光电成像器件与系统、光电子材料与器件

1、长春理工大学理学院，吉林长春，130000

摘要：相干多孔硅(Coherent Porous Silicon, CPS)是通道尺寸在微米量级且大小均匀，空间规则排列的多孔硅阵列，其具有高长径比，大孔隙率等优点，被广泛应用在硅微通道板、MEMS器件、微型散热器件等领域。本文针对光辅助电化学腐蚀制备相干多孔硅过程中的通道尺寸展开研究，首先探究了通道尺寸与腐蚀电流之间的关系，然后在研究电解液的扩散限制和暗电流的影响的基础上，根据实验数据对腐蚀电流控制进行修正，最后通过控制光源实现相干多孔硅阵列的均匀生长。

关键词：光电化学相干多孔硅通道尺寸

For information in English, please click here

Preparation of Coherent Porous Silicon with Uniform Pore Size by Photo - assisted Electrochemical Method

Li Wei ¹
刘微(1990-),女,硕士研究生,光电成像器件与系统
DUANMU Qingduo ¹
端木庆铎（1956-），男，教授，博士生导师,光电成像器件与系统、光电子材料与器件

1、Changchun University of Science and Technology,Jilin Changchun,130000

Abstract：Coherent Porous Silicon (CPS) is a porous silicon array with uniform pore size and uniform size and spatial regularity. It has the advantages of high aspect ratio and large porosity. It is widely used in silicon microchannel plate , MEMS devices, micro-cooling devices and other fields. In this paper, the aperture size of coherent porous silicon in photo-assisted electrochemical etching is studied. Firstly,the relationship between channel size and corrosion current is investigated. Then, based on the diffusion limitation and the influence of dark current, The experimental data are used to modify the corrosion current control. Finally, the coherent porous silicon arrays are uniformly grown by controlling the light source.

Keywords： Photoelectrochemistry Coherent Porous Silicon Channel size

基金：

1. 国家自然基金科研项目（61107027）

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刘微，端木庆铎. 光电化学制备相干多孔硅等径控制技术研究[EB/OL]. 北京：中国科技论文在线 [2016-12-16]. https://www.paper.edu.cn/releasepaper/content/201612-339.

No.4713749116817514****

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论文编号	201612-339
论文题目	光电化学制备相干多孔硅等径控制技术研究
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