您当前所在位置: 首页 > 首发论文
动态公开评议须知

1. 评议人本着自愿的原则,秉持科学严谨的态度,从论文的科学性、创新性、表述性等方面给予客观公正的学术评价,亦可对研究提出改进方案或下一步发展的建议。

2. 论文若有勘误表、修改稿等更新的版本,建议评议人针对最新版本的论文进行同行评议。

3. 每位评议人对每篇论文有且仅有一次评议机会,评议结果将完全公示于网站上,一旦发布,不可更改、不可撤回,因此,在给予评议时请慎重考虑,认真对待,准确表述。

4. 同行评议仅限于学术范围内的合理讨论,评议人需承诺此次评议不存在利益往来、同行竞争、学术偏见等行为,不可进行任何人身攻击或恶意评价,一旦发现有不当评议的行为,评议结果将被撤销,并收回评审人的权限,此外,本站将保留追究责任的权利。

5. 论文所展示的星级为综合评定结果,是根据多位评议人的同行评议结果进行综合计算而得出的。

勘误表

上传勘误表说明

  • 1. 请按本站示例的“勘误表格式”要求,在文本框中编写勘误表;
  • 2. 本站只保留一版勘误表,每重新上传一次,即会覆盖之前的版本;
  • 3. 本站只针对原稿进行勘误,修改稿发布后,不可对原稿及修改稿再作勘误。

示例:

勘误表

上传勘误表说明

  • 1. 请按本站示例的“勘误表格式”要求,在文本框中编写勘误表;
  • 2. 本站只保留一版勘误表,每重新上传一次,即会覆盖之前的版本;
  • 3. 本站只针对原稿进行勘误,修改稿发布后,不可对原稿及修改稿再作勘误。

示例:

上传后印本

( 请提交PDF文档 )

* 后印本是指作者提交给期刊的预印本,经过同行评议和期刊的编辑后发表在正式期刊上的论文版本。作者自愿上传,上传前请查询出版商所允许的延缓公示的政策,若因此产生纠纷,本站概不负责。

发邮件给 王小芳 *

收件人:

收件人邮箱:

发件人邮箱:

发送内容:

0/300

论文收录信息

论文编号 201808-55
论文题目 某国产DRIE干刻反应腔外聚焦环表面粗糙度对颗粒数目影响的机理研究
文献类型
收录
期刊

上传封面

期刊名称(中文)

期刊名称(英文)

年, 卷(

上传封面

书名(中文)

书名(英文)

出版地

出版社

出版年

上传封面

书名(中文)

书名(英文)

出版地

出版社

出版年

上传封面

编者.论文集名称(中文) [c].

出版地 出版社 出版年-

编者.论文集名称(英文) [c].

出版地出版社 出版年-

上传封面

期刊名称(中文)

期刊名称(英文)

日期--

在线地址http://

上传封面

文题(中文)

文题(英文)

出版地

出版社,出版日期--

上传封面

文题(中文)

文题(英文)

出版地

出版社,出版日期--

英文作者写法:

中外文作者均姓前名后,姓大写,名的第一个字母大写,姓全称写出,名可只写第一个字母,其后不加实心圆点“.”,

作者之间用逗号“,”分隔,最后为实心圆点“.”,

示例1:原姓名写法:Albert Einstein,编入参考文献时写法:Einstein A.

示例2:原姓名写法:李时珍;编入参考文献时写法:LI S Z.

示例3:YELLAND R L,JONES S C,EASTON K S,et al.

上传修改稿说明:

1.修改稿的作者顺序及单位须与原文一致;

2.修改稿上传成功后,请勿上传相同内容的论文;

3.修改稿中必须要有相应的修改标记,如高亮修改内容,添加文字说明等,否则将作退稿处理。

4.请选择DOC或Latex中的一种文件格式上传。

上传doc论文   请上传模板编辑的DOC文件

上传latex论文

* 上传模板导出的pdf论文文件(须含页眉)

* 上传模板编辑的tex文件

回复成功!


  • 1

某国产DRIE干刻反应腔外聚焦环表面粗糙度对颗粒数目影响的机理研究

首发时间:2018-08-29

张静怡 1    2   

张静怡(1993—),硕士生,主要研究方向:集成电路光刻工艺

黄其煜 1   

黄其煜(1975—),博士,副教授,主要研究方向:纳米材料和微加工技术

  • 1、上海交通大学电子信息与电气工程学院,上海 200240
  • 2、上海华力微电子有限公司,上海 201203

摘要:本文阐述某国产设备厂商某型号深反应离子刻蚀(deep reactive ion etching, DRIE)设备干刻反应腔副产物沉积在外聚焦环(cover ring)表面,由于副产物剥落,容易导致颗粒增多的问题。通过对cover ring材质粗糙度分析,发现增加cover ring表面粗糙度能够加强副产物的稳定性,从而减少因副产物不稳定而产生的颗粒,避免了对产品的影响。随着刻蚀产品数量的增加,工艺过程中会产生较多副产物沉积于cover ring。通过采取增加cover ring表面粗糙度,来控制并改善副产物剥落现象,大幅降低了副产物沉积在cover ring表面导致颗粒增多的问题发生,有效地提高了机台的有效运行率。

关键词: 外聚焦环 表面粗糙度 颗粒

For information in English, please click here

Study on the impact of surface roughness of the cover ring on the number of particles for a domestic DRIE

Zhang Jingyi 1    2   

张静怡(1993—),硕士生,主要研究方向:集成电路光刻工艺

Huang Qiyu

黄其煜(1975—),博士,副教授,主要研究方向:纳米材料和微加工技术

  • 1、School of Electronic Information and Electrical Engineering,Shanghai Jiao Tong University,Shanghai 200240
  • 2、Shanghai Huali Microelectronics Corporation,Shanghai 201203

Abstract:This paper describes that dry etching reaction chamber easily suffers particle high issue because of polymer spalling from cover ring of certain type of deep reaction ion etching equipment in some domestic equipment manufacturer. Through surface roughness analysis of cover ring, It is found that increasing the surface roughness of cover ring could enhance the stability of polymer. This reduces the number of particles produced by polymer instability in order to avoid the impact on the product. As the number of etched products increases, more polymer deposites on cover ring surface in process. Through increasing the surface roughness of the cover ring, we can control and improve the spalling of polymer. The problem of increased particles caused by polymer deposition on the surface of cover ring was significantly reduced. The effective operation rate of the machine is improved effectively.

Keywords: Cover ring Surface roughness Particle

Click to fold

点击收起

基金:

论文图表:

引用

导出参考文献

.txt .ris .doc
张静怡,黄其煜. 某国产DRIE干刻反应腔外聚焦环表面粗糙度对颗粒数目影响的机理研究[EB/OL]. 北京:中国科技论文在线 [2018-08-29]. http://www.paper.edu.cn/releasepaper/content/201808-55.

No.****

动态公开评议

共计0人参与

动态评论进行中

评论

全部评论

0/1000

勘误表

某国产DRIE干刻反应腔外聚焦环表面粗糙度对颗粒数目影响的机理研究