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论文编号 201809-45
论文题目 一种优化的冗余金属填充方法
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示例1:原姓名写法:Albert Einstein,编入参考文献时写法:Einstein A.

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一种优化的冗余金属填充方法

首发时间:2018-09-20

张尤磊 1    2   

张尤磊(1987-),女,硕士生,主要研究方向为可制造性设计和掩模版版图设计。

黄其煜 1   

黄其煜(1975-),男,副教授,主要研究方向为多孔材料和纳米压印技术。

  • 1、上海交通大学电子信息与电气工程学院,上海 200240
  • 2、上海楷登电子科技有限公司

摘要:随着集成电路制造技术的不断发展,刻蚀、化学机械研磨等工艺对于图形密度、图形梯度等指标变得越来越敏感,这也对冗余金属图形的填充提出了更高的要求,需要在尽可能少地影响RC延迟的情况下,提高图形的均匀性。本文通过引入图形匹配技术,结合基于规则的冗余金属填充和基于窗格的冗余金属填充,验证了一种新的冗余金属填充方法,克服了两种填充方法的缺点,有效地提升了图形均匀性。

关键词: 冗余金属填充 图形密度 图形梯度 图形匹配技术

For information in English, please click here

A Optimized Method of Dummy Metal Insertion

ZHANG Youlei 1    2   

张尤磊(1987-),女,硕士生,主要研究方向为可制造性设计和掩模版版图设计。

HUANG Qiyu 1   

黄其煜(1975-),男,副教授,主要研究方向为多孔材料和纳米压印技术。

  • 1、School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai JiaoTong University, Shanghai 200240
  • 2、Cadence Desgin System,Inc

Abstract:With the development of semiconductor manufactory, process such as ETCH/CMP is more and more sensitive to the pattern density and pattern gradient. Dummy metal insertion is required to improve the pattern uniformity while keep RC delay within the limitation. In this paper, pattern match technology, combined with rule based dummy metal insertion and smart dummy insertion, is used to introduce one new flow to improve the pattern uniformity without any side effect.

Keywords: Dummy metal insertion Pattern density Pattern gradient Pattern match

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张尤磊,黄其煜. 一种优化的冗余金属填充方法[EB/OL]. 北京:中国科技论文在线 [2018-09-20]. https://www.paper.edu.cn/releasepaper/content/201809-45.

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