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高义华

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期刊论文

NiFe/Mo多层膜界面的电子显微学研究*

高义华张泽阎明朗赖武彦

物理学报,1998,47(5): 765-777,-0001,():

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摘要/描述

用高分辨电子显微学方法研究了Ni80Fe20/Mo磁性多层膜,结果表明:(1)多层膜的结晶状态,随Mo非磁性层厚度而变化。当Mo层厚度为0.7nm时,多层膜基本为非晶;当Mo层厚度大于116nm时,Mo层和NiFe层内分别结晶为体心立方和面心立方多晶,层内晶粒尺寸为2-6nm。(2)在Mo层厚度为1.6和2.1nm的多层膜中,NiFe层和Mo 层之间存在两种取向关系:(110) Mo∥(111) NiFe,[111]Mo∥[110]NiFe和(110)Mo∥(111)NiFe,[001 ]Mo ∥[ 110 ]NiFe(3) NiFe层和Mo层之间有较清晰的界面。界面附近3-4个原子层范围内,NiFe 和Mo 的面间距分别相对块状晶体沿生长方向膨胀和压缩。讨论了界面附近面间距的变化,并根据该多层膜显微结构特征,讨论了此系统未显示巨磁电阻效应的原因。

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版权说明:以下全部内容由高义华上传于   2009年12月03日 21时17分20秒,版权归本人所有。

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