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高义华
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期刊论文
NiFe/Mo多层膜界面的电子显微学研究*
物理学报，1998，47（5）： 765-777，-0001，（）：
用高分辨电子显微学方法研究了Ni80Fe20/Mo磁性多层膜，结果表明：(1)多层膜的结晶状态，随Mo非磁性层厚度而变化。当Mo层厚度为0.7nm时，多层膜基本为非晶；当Mo层厚度大于116nm时，Mo层和NiFe层内分别结晶为体心立方和面心立方多晶，层内晶粒尺寸为2-6nm。(2)在Mo层厚度为1.6和2.1nm的多层膜中，NiFe层和Mo 层之间存在两种取向关系：(110) Mo∥(111) NiFe，[111]Mo∥[110]NiFe和（110）Mo∥（111）NiFe，[001 ]Mo ∥[ 110 ]NiFe(3) NiFe层和Mo层之间有较清晰的界面。界面附近3-4个原子层范围内，NiFe 和Mo 的面间距分别相对块状晶体沿生长方向膨胀和压缩。讨论了界面附近面间距的变化，并根据该多层膜显微结构特征，讨论了此系统未显示巨磁电阻效应的原因。
【免责声明】以下全部内容由[高义华]上传于[2009年12月03日 21时17分20秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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