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黄启忠
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期刊论文
CVD热解炭的结构、生长特征及可石墨化性
无机材料学报，2004，19（5）：1118～1122，-0001，（）：
摘要/描述
采用TEM表征结构、喇曼光谱表征石墨化度，研究了C/C复合材料中典型粗糙层（RL）和光滑层（SL）结构热解炭生长特征及其与可石墨化性之间的对应关系。结果表明，RL为层状结构，片层呈平直形状，有明显的锥状生长特征，同一锥面中石墨微晶C轴的取向基本相同。相邻锥面中的相差一个小角度，SL没有明显的生长特征；RL比SL结构热解炭容易石墨化，经2400℃石墨化处理后，两者（002）衍射弧宽度分别为39°和66°，对应的石墨化度分别为87.6%和25.6%。提出了一种RL结构热解炭锥状生长结构模型。
【免责声明】以下全部内容由[黄启忠]上传于[2009年04月05日 20时46分00秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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