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刘玉岭
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期刊论文
ULSI多层铜布线钽阻挡层及其CMP抛光液的优化
半导体技术，2004，29（7）：18～20（下转第34页），-0001，（）：
摘要/描述
分析了铜多层布线中阻挡层的选取问题，根据铜钽在氧化剂存在的情况下，抛光速率对pH值的不同变化趋势，提出优化碱性抛光液配比进而改变pH值，以达到铜钽抛光一致性的方法，并进行了相应的实验研究。
【免责声明】以下全部内容由[刘玉岭]上传于[2009年07月10日 16时56分58秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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