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宁兆元
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期刊论文
电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积a-CFx薄膜的化学键结构
物理学报2001年3月第50卷第3期/ACTA PHYSICA SINICA Vol. 50, No. 3, March., 2001，-0001，（）：
摘要/描述
使用CHF3和C6H6混合气体傲气源，在一个电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积装置中制备了氟化非晶碳(a-CFx )薄膜。利用发射光谱研究了等离子体中形成的各种碳一氟、碳一氢基团随放电宏观参量的变化规律，对薄膜做了傅里叶变换红外光谱和x射线光电子能谱分析，证实等离子体中的CF2，CF和CH基团是控制薄膜生长、碳／氟成分比和化学键结构的主要前驱物。
【免责声明】以下全部内容由[宁兆元]上传于[2007年05月15日 18时52分20秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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