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吴洪才

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期刊论文

离子注入聚(22甲氧基252辛氧基)对苯乙炔薄膜的改性研究

吴洪才孙建平刘效增郑建韦玮

真空科学与技术,2003,23(3):208~201,-0001,():

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摘要/描述

采用能量为(10~35) keV,剂量为(310×1015~418×1017)ions/cm2的氮离子(N+)对聚(22甲氧基252辛氧基)对苯乙炔(PMOCOPV)进行离子注入改性。PMOCOPV薄膜的电导率随注入离子能量和剂量的增加而迅速提高。当注入N+的能量为35keV,剂量为418×1017ions/cm2时,PMOCOPV薄膜的电导率为01096S/cm,比本征态的电导率提高了7个数量级。通过超高阻测试仪研究了PMOCOPV薄膜表面电导率与温度的关系,发现N+注入PMOCOPV薄膜的电导活化能为01156eV。离子注入PMOCOPV薄膜的电导率的环境稳定性优于I2和FeCl3掺杂的PMOCOPV。对离子注入PMOCOPV薄膜的导电机理进行了初步探讨。

【免责声明】以下全部内容由[吴洪才]上传于[2005年02月25日 00时49分05秒],版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点,与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立,不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考,并请自行承担全部责任。

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