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薛钰芝
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期刊论文
氢离子束对Mo-Si多层膜界面改性的研究
真空科学与技术，1995，15（1）：31～35，-0001，（）：
摘要/描述
为了研究氢离子束轰击Mo-Si多层膜界面的情况，采用氢离子束（能量150 eV）轰击Si表面，即Si与Mo之界面。再用Kr离子束溅射刻蚀，并用俄歇电子能谱（AES）分析。实验结果说明氢离子束对Si表面轰击能有效防止界面混杂效应（intermixing effect）。进而说明这是制备软X射线多层膜反射镜过程中解决界面混杂问题的有效途径。
【免责声明】以下全部内容由[薛钰芝]上传于[2009年08月17日 14时09分53秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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