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薛钰芝
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期刊论文
M0/Si和M0/84C软X射线多层膜的界面热稳定性研究*
真空科学与技术，1998，18（6）：409～414，-0001，（）：
摘要/描述
用磁控溅射法制备Mo/Si多层膜（周期为25nm，20层）和Mo/B4C多层膜（周期为3.9nm，121层），并在真空中加热30min，温度为200，400，600，800和1000℃。用小角X射线衍射法和透射电镜研究不同温度下（保温0.5h）加热的样品。实验结果表明，当加热温度达600℃时，Mo/Si多层膜周期被破坏。而Mo/B4C多层膜在800℃加热温度下仍保持周期性层状结构。说明Mo/B4C多层膜不仅周期只有3.9nm，而且具有很好的热稳定性，可以作为较短波长的软X射线多层膜推广应用。
【免责声明】以下全部内容由[薛钰芝]上传于[2009年08月17日 14时10分12秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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