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闫鹏勋
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期刊论文
纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究
人工晶体学报，33（6）：974～977，-0001，（）：
摘要/描述
利用自行研制的磁过滤等离子体设备，在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜。运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征。利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量。结果显示：沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑，致密而无缺陷；硬度远高于粗晶TiN的硬度；TiN晶粒尺寸在30～50nm；沉积过程中在基底上施加的负偏压会影响纳米结构TiN薄膜的结构和性能。
【免责声明】以下全部内容由[闫鹏勋]上传于[2005年07月18日 23时56分34秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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