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张德贤
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期刊论文
RF-PECVD制备微晶硅薄膜的X射线衍射研究
人工晶体学报，2007，36（3）：545～549，-0001，（）：
摘要/描述
采用X射线衍射（XRD）技术连续扫描法和薄膜衍射法对RF-PECVD制备的微晶硅薄膜结构进行了研究。改变硅烷浓度和反应功率，控制薄膜的生长速率，已达到制备不同材料的目的。根据硅基薄膜的电学特性和XRD测试，随着反应功率的增加，硅基薄膜的生长速率不断提高，微晶硅薄膜的晶化程度不断增大。
【免责声明】以下全部内容由[张德贤]上传于[2010年01月04日 19时53分17秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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