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刘兴钊

     

  

BST铁电薄膜、半导体SiC外延薄膜、半导体低维结构等

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  • 姓名:刘兴钊
  • 目前身份:
  • 担任导师情况:
  • 学位:
  • 学术头衔:

    博士生导师

  • 职称:-
  • 学科领域:

    微电子学

  • 研究兴趣:BST铁电薄膜、半导体SiC外延薄膜、半导体低维结构等
个人简介

 刘兴钊,男,教授,1966年3月出生。1989年毕业于武汉大学物理系,1992年从中科院固体物理研究所获硕士学位,1999年在电子科技大学获博士学位。1997年至1998年在德国FZK研究中心开展客座研究。长期从事电子薄膜材料的生长研究,主要研究方向包括:BST铁电薄膜、半导体SiC外延薄膜、半导体低维结构等,在Thin Solid Films、Physica C、Superconductor Science and Technology、Jpn. J. Appl. Phys.等杂志发表及合作发表论文40多篇,获国家发明二等奖、省部一等、二等奖各一项(排名第二)。

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