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何春清

正电子湮没技术及应用、多正电子物理、慢正电子束技术；多孔薄膜材料制备、物性研究及应用；纳米材料及纳米技术等。

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姓名：何春清
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学位：
学术头衔：
职称：-
学科领域：

原子核物理学
研究兴趣：正电子湮没技术及应用、多正电子物理、慢正电子束技术；多孔薄膜材料制备、物性研究及应用；纳米材料及纳米技术等。

个人简介

1998.2-2001.1 复旦大学现代物理研究所与武汉大学物理系，博士；
2001.3-2003.3 日本高能加速器研究机构（KEK），博士后研究员：脉冲化正电子慢束开发、高分子及薄膜微结构研究；
2003.4-2004.3 日本京都大学实验原子炉研究所（KUR），博士后研究员：核材料中子辐照效应及金属的氢脆化研究，正电子显微技术开发；
2004.4-2008.3 日本产业技术综合研究所AIST，获Japan Society of the Promotion Science (JSPS) fellowship (ID No.：P04502）及AIST特别研究员；期间曾获批德国洪堡基金研究奖学金（Alexander von Humboldt Research fellowship，申请ID：CHN/1122712，)：功能薄膜材料的制备及微结构研究、正电子微束的开发、纳米孔计测标准化；
2008.04迄今武汉大学物理科学与技术学院，副教授、教授(博士研究生导师)：新型正电子微束开发及其应用研究、多正电子物理与化学、物质反物质相互作用；多孔质薄膜制备、表征和物性研究；材料辐照效；应高分子结晶、老化研究；
2011.09 当选正电子与电子偶素化学国际会议（PPC）顾问委员会委员。
2012.10 1st China-Japan Jiont Workshop on Positron Science, Chair
现主持参与国家自然科学基金项目2项，曾主持日本学术振兴会(JSPS)研究项目，作为骨干参与日本新能源和工业技术发展机构(NEDO)、日本文部科学省(MEXT)等多项基础研究项目，发表论文近90篇（包括SC、EII论文60余篇），其中以第一者、通讯作者发表在Phys.Rev.B, Appl.Phys.Lett, J.Chem.Phys., Chem.Phys.等SCI期刊上的论文30余篇，17次参加国际会议并作多次口头和邀请报告。

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2012-10-24

【期刊论文】孔形态对电子偶素在介孔硅质薄膜中扩散、表面再发射的影响

何春清， Chunqing He， Shaojie Wang， Yoshinori Kobayashi， Toshiyuki Ohdaira， and Ryoichi Suzuki

PHYSICAL REVIEW B，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

Diffusion of ortho-positronium (o-Ps) in mesoporous silica films with different pore morphologies and its emission from the surfaces were studied using the Ps time-of-flight method and positron annihilation γ -ray energy spectroscopy. Probabilities of o-Ps formation are almost the same in the studied films, however, the emission intensity of o-Ps from the film with much larger cagelike pores is significantly less than that from the film with much smaller tubelike pores, where Ps diffusion between cages is feasible by tunneling. A simple strategy is suggested to use mesoporous silica film for the generation of dense enough Ps for many-positronium experiments.

电子偶素，介孔薄膜，电子偶素时间飞行谱，扩散，发射，局限