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2007年11月29日

【期刊论文】Si基Ge量子点光电探测器的研究

陈培毅, 魏榕山, 邓宁, 王民生, 张爽

《半导体光电》2006年8月第27卷第4期,-0001,():

-1年11月30日

摘要

采用U HV/ CVD 方法在Si (100) 衬底上生长了多层的自组织Ge 量子点,用AFM对量子点的形貌和尺寸分布进行了研究。材料的低温(10 K) PL 谱测试表明,由于量子点的三维限制作用,跟体材料的Ge 相比,Ge 量子点的NP 峰表现出87 meV的蓝移。在此基础上,流水制作了p-i-n 结构的量子点红外探测器。室温下,测得其在1. 31μm 和1. 55μm 的响应度分别为0. 043mA/ W 和0. 001 4 mA/ W,覆盖了体Si 探测器所不能达到的响应范围。

U HV/,  CVD;量子点;量子点红外探测器;暗电流密度;响应度

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2007年11月29日

【期刊论文】Effect

陈培毅, Ning

Thin Solid Films 513 (2006) 47-51,-0001,():

-1年11月30日

摘要

Shape

Self-assembled

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2007年11月29日

【期刊论文】Analysis of effective spin-polarized transport through a ZnO based magnetic p–n junction at room temperature

陈培毅, Lei

Superlattices and Microstructures 42 (2007) 222-225,-0001,():

-1年11月30日

摘要

ZnO based magnetic semiconductors (MSs) are prominent candidates for the spintronic devices because of their high Curie temperatures and low conductance mismatches. In this paper the spin-polarized transport in MS/nonmagnetic semiconductor (NMS) p–n junction is investigated. A model is established based on semiconductor drift–diffusion theory and continuity equation. Boundary conditions are obtained from the quasi-chemical potential (QCP) relations at the junction interface. For a ZnO based magnetic p–n junction, we calculate the distributions of carrier/spin density and spin polarization at room temperature. It is demonstrated that by choosing proper parameters, effective spin-polarized injection from ZnO based MS into ZnO can be achieved at room temperature without external spin-polarized injection (ESPI) or large bias.

Spin-polarized injection,  ZnO,  p–n junction,  Magnetic semiconductor,  Room temperature

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2007年11月29日

【期刊论文】基于磁动力学方程的电流感应磁化翻转效应的宏观模型

陈培毅, 任敏, 张磊, 胡九宁, 邓宁

物理学报2007年5月第56卷第5期/ACTA PHYSICA SINICA May., 2007, Vol. 56, No. 5,-0001,():

-1年11月30日

摘要

提出了一个基于磁动力学方程的宏观唯象理论模型,对纳米级赝自旋阀结构的电流感应磁化翻转效应给出了明晰的物理解释:流入自由层的净自旋流和自由层内的自旋弛豫过程的共同作用,导致自由层总磁矩随时间的改变,甚至产生磁化方向的翻转。模型将“铁磁/非铁磁”界面的自旋相关散射,以及铁磁层中的自旋积累和弛豫过程,统一于宏观的磁动力学方程中。通过求解该方程的解析解,给出了赝自旋阀在电流激励下的磁化翻转条件和临界电流密度的表达式。对该效应的定性解释和数值模拟结果都和实验报道良好符合。根据模型分析了影响临界电流密度的诸因素,并指出提高器件性能的途径。

电流感应磁化翻转, 磁动力学方程, 自旋电子学

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2005年02月25日

【期刊论文】应变Si沟道异质结NMOS晶体管*

陈培毅, 史进, 黄文涛

半导体学报,2002,23(7):685~689,-0001,():

-1年11月30日

摘要

通过参数调整和工艺简化,制备了应变Si沟道的SiGeNMOS晶体管。该器件利用弛豫SiGe缓冲层上的应变Si层作为导电沟道,相比于体Si器件在1V栅压下电子迁移率最大可提高48.5%。

应变, SiGe, 跨导, 迁移率

合作学者

  • 陈培毅 邀请

    清华大学,北京

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