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2006年12月06日

吴广明，傅亚翔，马建华，沈军

同济大学学报，2002，30（3）：370～374，-0001，（）：

-1年11月30日

以金属w粉为无机原料，采用溶胶一凝胶技术，结合浸渍镀膜方法，制备出纳米多孔WO2薄膜，研究了热处理对薄膜性能的影响采用原子力显微镜、红外光谱仪、可见光分光光度计、椭偏仪等仪器测量了薄膜的特性实验表明：热处理使得薄膜致密，折射率增大（从l.77增加至2.03），厚度减小，WO2颗粒增大；wo3结构发生变化。桥键W-O-W吸收逐渐减弱，且向低渡数方向移动，共角W-0-W键吸收越来越强这些变化归因于热处理导致的wq颗粒形状、团聚状态的变化以及应力键的产生。

溶胶-凝胶技术， WO3薄膜，热处理，米多孔结构

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2006年12月06日

【期刊论文】疏水型SiO2光学增透膜的制备*

吴广明，马建华，程银兵，孙骐，王俊玲，沈军，王珏

物理化学学报，2001，17（21）：1112～1116，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

以正硅酸乙酯（TEOS）为有机醇盐前驱体，采用溶胶凝胶技术，通过酸/碱二步法控制实验条件，结合三甲基氯硅烷（TMCS）对腔粒表面的修饰过程，制备出结构可控的疏水型SiO2薄膜，采用椭偏仪、FTTR接触角测试仪、SEM等对薄膜的折射率、红外特性，接触角以及表面形貌等进行了测量研究结果表明，疏水型SiO，薄膜的折射率在1.33～1.18之间连续可调：SiO2胶粒表面的亲水性-OH中的H已部分被非活性-Si（CH3），基团取代：接触角由表面未修饰膜的40左右增加到表面修饰膜的120°左右。

溶胶-凝胶 SiO2表面修饰疏水薄膜

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2006年12月06日

【期刊论文】溶胶凝胶制备纳米多孔SiO2光学增透薄膜耐磨特性强化研究

吴广明，沈军，王珏，周斌，倪星元

原子能科学技术，2002，36（4）：375～379，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

在溶胶-凝胶基础上，采用碱酸两步法和浸渍镀膜技术制备出纳米多孔SiO2薄膜，并将该薄膜在空气和氨气与水蒸气的混合气体中热处理。使用透射电子显微镜、原子力显微镜、傅立叶红外光谱仪、椭偏仪、分光光度计等分析了薄膜的特性。实验结果表明：采用碱!酸两步催化法能够明显提高纳米多孔SiO2光学增透薄膜的力学特性，混合气体中的热处理又使其力学性能得到进一步改善。薄膜耐磨等力学性能增强归因于SiO2颗粒间更多的化学键合。在力学性能增强的同时，薄膜折射率仍保持约1.24的较低值，光学增透效果良好，透射率≥99.5%。

溶胶-凝胶技术，增透薄膜，纳米多孔结构， SiO2薄膜

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2006年12月06日

【期刊论文】溶胶-凝胶法制备sioz-TiO2纳米复合薄膜紫外光处理的研究

吴广明，马建华，沈军，王珏

无机材料，2001，16（6）：1174～1180，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

采用溶胶-凝胶技术，结合二步水解法分别在单晶硅片、石英玻璃和K9玻璃上制备SiO2-TiO2纳米复合薄膜，采用高压汞灯对其进行紫外光处理，分别用AFM、椭偏仪、FTm、uv-vis分光光度计以及xRD对凝胶膜紫外光处理前后的光学性能和结构进行研究，并与传统的热处理进行比较与分析。研究表明，紫外光处理是实现凝胶膜低温致密化的有效方法之一，其致密化的机理不同于传统的热处理，主要是通过紫外高能光子诱导复合薄膜网络结构的原子中的电子激发，导致原子化学键的断裂，进而产生结构重组而致密化。

SiO2-TiO2纳米复合薄膜，溶胶-凝胶法，紫外光处理

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2006年12月06日

【期刊论文】实验条件对纳米多孔SiO2薄膜结构及特性的影响*

吴广明，王珏，沈军，杨天河，张勤远，周斌，邓忠生，范滨，周东平，张风山

物理学报，2001，50（1）：175～181，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

报道了实验制备条件对纳米多孔SiO2薄膜结构、折射率、红外吸收、xPs等特性的影响，尤其是报道了一种新的快速、方便、有效实现纳米多孔SiO2薄膜折射率连续调节的方法在溶胶-凝胶基础上，采用碱、酸一步法以及碱/酸两步法和浸渍镀膜技术制备了纳米多孔SiO2薄膜使用原子力显微镜、扫描电镜、xPs、傅里叶红外光谱仪、椭偏仪等方法测量和分析了薄膜的特性实验结果给出从碱一步法、碱/酸两步法、到酸一步法形成的薄膜，SiO2颗粒变小，孔隙率降低，折射率从118连续增加到1.41；s-2。峰向高束缚能方向移动，并接近块体的值；红外吸收光学模m。的频率向低波数方向移动，揭示了s-0-s-键角的不断降低这些结果表明，碱/酸两步法能方便、有效地连续控制纳米多孔SiO2薄膜的结构；实验条件对薄膜特性的影响起因于纳米多孔结构改变引起的s-凸结构变化

溶胶-凝胶技术,， SiO2薄膜,，纳米多孔结构

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