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李美亚
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期刊论文
Si基铁电Bi3-15Nd0. 85Ti3012多层薄膜的一致取向生长和性能的研究*
物理学报，2006，55（3）：1472～1478，-0001，（）：
采用脉冲激光沉积（PLD）技术，利用Lsc0/ce02/YsZ多异质缓冲层，在si(100)基片上成功地制备了c轴一致取向的Bi3.15Nd0.85Ti3O12（BNT）铁电薄膜利用x射线衍射（xRD）和扫描电镜（sEM）分析测定了薄膜的相结构、取向和形貌特征，考察了沉积温度和氧分压对BNT薄膜微结构、取向和形貌的影响，确定了BNr薄膜的最佳沉积条件对在优化的条件下制备得到的BNT薄膜的CV曲线测试得到了典型的蝴蝶形曲线，表明该薄膜具有较好的电极化反转存储特性最后讨论了BNT薄膜铁电性能与薄膜取向的相关性
【免责声明】以下全部内容由[李美亚]上传于[2006年09月05日 01时19分22秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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