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闫鹏勋
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期刊论文
在室温条件下制备高质量纳米结构TiN薄膜研究
无机材料学报，2004，19（6）：1386～1390，-0001，（）：
摘要/描述
在室温条件下，利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜。运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征，利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量。结果表明：TiN薄膜表面光滑，致密，无柱状晶；TiN晶粒的平均尺寸为50nm，薄膜硬度达50GPa，是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多；XRD衍射试验表明，纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动，TiN晶粒沿（111）择优生长。
【免责声明】以下全部内容由[闫鹏勋]上传于[2005年07月19日 00时07分08秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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