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闫鹏勋
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期刊论文
纳米结构TiN薄膜的制备及其摩擦学性能*
材料研究学报，2004，18（3）：280～284，-0001，（）：
在室温条件下，用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜。分析了薄膜的表面形貌、晶体结构，测量了TiN薄膜的硬度，研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响。结果表明，用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑，颗粒尺寸为50～80nm；随着基底偏压的增大薄膜发生（111）面的择优取向。随着偏压的提高，薄膜的颗粒度稍有增大，摩擦系数增大，偏压提高，晶面在较密排的（111）面有强烈的择优取向，硬度也有所增大。在其它条件相同的情况下载荷越大，摩擦系数越大。不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构TiN薄膜具有较低的摩擦系数（0.14～0.25)。
【免责声明】以下全部内容由[闫鹏勋]上传于[2005年07月18日 23时57分37秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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