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张润楚

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期刊论文

Minimum aberration designs with two-level and four-level factors

张润楚By C. F. J. WU AND RUNCHU ZHANG

Biometrika (1993), 80, 1, pp. 203-9,-0001,():

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摘要/描述

For optimal assignment of factors to columns of a 4m2n, design, we consider extensions of the minimum aberration criterion for the 2 level designs Minimum aberration 412n and 422n designs in t6 and 32 runs are obtained and tabulated Some results on the wordlength pattens and design classification are obtained.

【免责声明】以下全部内容由[张润楚]上传于[2006年09月29日 21时27分22秒],版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点,与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立,不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考,并请自行承担全部责任。

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