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周斌
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期刊论文
驱动光束不均匀性研究中的硅平面薄膜*
强激光与粒子束，2000，12（2）：181、281、381、481，-0001，（）：
摘要/描述
介绍以氧化、扩散、光刻等现代半导体技术结合化学腐蚀工艺实现对Si片的定向自截止腐蚀，制备获得用于研究驱动光束不均匀性的自支撑Si平面薄膜的工艺。通过台阶仪测量厚度在3～4Lm的Si平面薄膜，在扫描范围为1000Lm时，它的表面粗糙度为几十纳米；SEM测量表明，Si薄膜表面颗粒度在纳米量级；探讨了采用控制扩散、腐蚀参数和表面修饰处理来降低Si膜表面粗糙度的方法。
【免责声明】以下全部内容由[周斌]上传于[2009年01月09日 11时27分22秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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