提示
吴志明
-
68浏览
-
0点赞
-
0收藏
-
0分享
-
42下载
-
0评论
-
引用
期刊论文
磁控溅射氧化钒薄膜的研究
《功能材料》，2001，10（增刊）：1437～1438，-0001，（）：
摘要/描述
本文讨论了在低温磁控溅射沉积氧化钒薄膜的特性。采用金属钒作为靶材，利用反应磁控溅射工艺制备了氧化钒薄膜，在适当的Ar:O比例条件下，通过改变溅射总压，溅射时间，溅射温度等工艺参数，探索了氧化钒的成膜工艺。并分析了不同工艺条件对薄膜方阻，薄膜电阻温度特性的影响，最后对样品进行了XPS分析，结果表明适当控制溅射氧化钒的工艺条件可以在较低温度下形成VOX，并具有较好的电特性。
【免责声明】以下全部内容由[吴志明]上传于[2009年05月14日 14时32分02秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
我要评论
全部评论
共 0 条
本学者其他成果
同领域成果
