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薛钰芝
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期刊论文
Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究
真空科学与技术，2002，22（1）：73～76，-0001，（）：
用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3 薄膜和多层膜。用X射线光电子谱仪（XPS）和透射电镜（TEM）对样品进行检测。XPS 实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2～5nm。Al/Al2O3 薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为1.43～1.85。Ar 离子刻蚀的XPS 实验结果（刻蚀速率为0.09nm/s）说明：2个对层的Al/Al2O3 多层膜截面样品具有周期性结构。TEM观察到了5个对层的Al/Al2O3 多层膜的层状态结构，其周期为4nm。由此说明，热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2O3 多层膜的有效方法。
【免责声明】以下全部内容由[薛钰芝]上传于[2009年08月17日 14时10分29秒]，版权归原创者所有。本文仅代表作者本人观点，与本网站无关。本网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。
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