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2011年08月23日

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2009年04月19日

【期刊论文】Electrodeposition of Lu /Ni alloy thin films

童叶翔, Gaoren Li a, Yexiang Tong a, Yu Wang b, Guankun Liu a, *

Electrochimica Acta 48(2003)4061-4067,-0001,():

-1年11月30日

摘要

The electrodeposition of Lu+/Ni alloy thin films from Lu(Ⅲ) and Ni(Ⅱ) solutions was studied in a nonaqueous dimethysulfoxide (DMSO). Different substrates have been used (platinum and copper), and the effect of them on the electrochemical behavior of the studied ions is shown. The obtained Lu+/Ni alloy thin films were subjected to scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive X-ray analysis (EDX) and X-ray diffraction analysis (XRD). The lutetium content in Lu-/Ni alloy thin films increases as the potential was made more cathodic, reaching a maximum value of 28.77 at.%, and then decreases. The films were amorphous. After heat treatment of crystallization at 520℃ for 1 h, the alloy phase of Lu+/Ni can be found in XRD patterns.

Lu+, /, Ni alloy thin films, Electrodeposition, Stripping, Dimethysulfoxide (, DMSO),

合作学者

  • 童叶翔 邀请

    中山大学,广东

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