Density functional theory study of initial stage of ZrO2 atomic layer deposition on Ge/Si (100)-(2，成果详细信息-中国科技论文在线

张卫

期刊论文

Density functional theory study of initial stage of ZrO2 atomic layer deposition on Ge/Si (100)-(2

Thin Solid Films 479(2005)73-76，-0001，（）：

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摘要/描述

The reaction mechanisms of ZrCl4 adsorption and dissociation on Ge/Si (100)-(2

关键词: Ab initio calculation ， Dielectrics ， Atomic layer deposition ， Chemisorption

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