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2005年07月19日

【期刊论文】Post boronizing ion implantation of C45 steel

闫鹏勋， P.X. Yan a， *， Z.Q. Wei a， X.L. Wen a， Z.G. Wu a， J.W. Xu a， W.M. Liu b， J. Tian b

Applied Surface Science 195(2002)74-79，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

This article firstly presents results for C45 steel surface modification by post boronizing N

Boride， Gaseous boronizing， Ion implantation

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2005年07月18日

【期刊论文】类金刚石涂层在不同载荷和湿度下的摩擦特性

闫鹏勋，韩修训，阎鹏勋，阎逢元，刘维民

摩擦学学报，23（1）：5～9，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置在单晶硅基底上制备了类金刚石涂层，采用原子力显微镜和纳米压痕仪测定了其表面形貌及硬度，在DF2PM型动2静摩擦系数精密测定仪上考察了涂层在不同载荷及湿度下同GCr15钢对摩时的摩擦性能。结果表明，在不同环境湿度条件下DLC涂层的摩擦性能明显不同，这主要归因于转移膜形成机理的不同；在3N载荷下，DLC涂层同GCr15钢对摩时的摩擦系数相对较小，且较为稳定；当环境湿度增大至100%时，摩擦系数显著增大，并发生类似于含氢类金刚石涂层的灾难性磨损。

磁过滤等离子体，类金刚石涂层，摩擦性能

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2005年07月18日

【期刊论文】工艺参数对阳极弧放电等离子体制备镍纳米粉的影响

闫鹏勋，魏智强，，温贤伦，王君，吴志国，徐建伟，吴现成

稀有金属材料与工程，33（3）：305～308，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

在Ar惰性保护气氛中，采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末。研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响。利用XRD、TEM 对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定。结果表明，适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20nm～100nm的纳米粉，在其它工艺参数不变条件下，气压升高或电弧电流增大，都会使粒度增大，产率提高。

阳极等离子体，纳米粉，粒度，工艺参数

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2005年07月19日

【期刊论文】The response of a NiOx thin film to a step potential and its electrochromic mechanism

闫鹏勋， S.R. Jiang， P.X. Yan *， B.X. Feng， X.M. Cai， J. Wang

Materials Chemistry and Physics 77(2002)384-389，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

The response of an RF sputtered NiOx thin film to step potential and its electrochromic mechanism have been investigated. It was found that the NiOx films manifested fine electrochromic properties. Bleaching and coloration did not cause the change of the film's structure. The NiOx films are non-stoichoimetric with Ni vacancies. It is suggested that the bleaching and coloration reaction of the NiOx films in a KOH solution occurs along the grain boundaries. The physical absorption of colored NiOx films is caused by the intraband absorbance of the t2g level of the Ni3+ ion.

NiOx film， Electrochromic properties， Electrochemical mechanism

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2005年07月19日

【期刊论文】多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比

闫鹏勋，张玉娟，，吴志国，张伟伟，阎鹏勋，刘维民，薛群基

摩擦学学报，24（6）：498～502，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

分别采用多弧离子镀（MAIP）和带有平面“S”形过滤管的磁过滤阴极弧设备（FCAP）在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜；采用往复式球2盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能；采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其元素面分布。结果表明：采用FCAP技术制备的薄膜表面光滑、缺陷少、普遍具有明显的（111）面择优取向；而采用MAIP技术制备的薄膜表面存在较多大小不一的颗粒和孔洞，且无明显取向。在较低载荷下，采用FCAP薄膜表现出较好的抗磨性能，其磨斑表面存在沉积的TiN磨屑；而采用MAIP制备的薄膜磨斑表面无转移沉积磨屑，摩擦系数较高。

磁过滤等离子体沉积，多弧离子镀，氮化钛薄膜，摩擦学性能

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