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2005年07月19日

【期刊论文】Post boronizing ion implantation of C45 steel

闫鹏勋， P.X. Yan a， *， Z.Q. Wei a， X.L. Wen a， Z.G. Wu a， J.W. Xu a， W.M. Liu b， J. Tian b

Applied Surface Science 195(2002)74-79，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

This article firstly presents results for C45 steel surface modification by post boronizing N

Boride， Gaseous boronizing， Ion implantation

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2005年07月18日

【期刊论文】工艺参数对阳极弧放电等离子体制备镍纳米粉的影响

闫鹏勋，魏智强，，温贤伦，王君，吴志国，徐建伟，吴现成

稀有金属材料与工程，33（3）：305～308，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

在Ar惰性保护气氛中，采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末。研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响。利用XRD、TEM 对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定。结果表明，适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20nm～100nm的纳米粉，在其它工艺参数不变条件下，气压升高或电弧电流增大，都会使粒度增大，产率提高。

阳极等离子体，纳米粉，粒度，工艺参数

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2005年07月19日

【期刊论文】在室温条件下制备高质量纳米结构TiN薄膜研究

闫鹏勋，吴志国，徐建伟，张玉娟，，张伟伟，刘伟民

无机材料学报，2004，19（6）：1386～1390，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

在室温条件下，利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜。运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征，利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量。结果表明：TiN薄膜表面光滑，致密，无柱状晶；TiN晶粒的平均尺寸为50nm，薄膜硬度达50GPa，是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多；XRD衍射试验表明，纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动，TiN晶粒沿（111）择优生长。

TiN，磁过滤等离子体，纳米薄膜

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2005年07月18日

【期刊论文】纳米结构TiN薄膜的制备及其摩擦学性能*

闫鹏勋，张玉娟，，吴志国，阎鹏勋，薛群基

材料研究学报，2004，18（3）：280～284，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

在室温条件下，用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜。分析了薄膜的表面形貌、晶体结构，测量了TiN薄膜的硬度，研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响。结果表明，用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑，颗粒尺寸为50～80nm；随着基底偏压的增大薄膜发生（111）面的择优取向。随着偏压的提高，薄膜的颗粒度稍有增大，摩擦系数增大，偏压提高，晶面在较密排的（111）面有强烈的择优取向，硬度也有所增大。在其它条件相同的情况下载荷越大，摩擦系数越大。不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构TiN薄膜具有较低的摩擦系数（0.14～0.25)。

无机非金属材料,，氮化钛,，磁过滤等离子体,，纳米薄膜,，摩擦学

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2005年07月19日

【期刊论文】多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比

闫鹏勋，张玉娟，，吴志国，张伟伟，阎鹏勋，刘维民，薛群基

摩擦学学报，24（6）：498～502，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

分别采用多弧离子镀（MAIP）和带有平面“S”形过滤管的磁过滤阴极弧设备（FCAP）在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜；采用往复式球2盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能；采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其元素面分布。结果表明：采用FCAP技术制备的薄膜表面光滑、缺陷少、普遍具有明显的（111）面择优取向；而采用MAIP技术制备的薄膜表面存在较多大小不一的颗粒和孔洞，且无明显取向。在较低载荷下，采用FCAP薄膜表现出较好的抗磨性能，其磨斑表面存在沉积的TiN磨屑；而采用MAIP制备的薄膜磨斑表面无转移沉积磨屑，摩擦系数较高。

磁过滤等离子体沉积，多弧离子镀，氮化钛薄膜，摩擦学性能

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