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2005年07月18日

【期刊论文】磁过滤等离子体制备TiN薄膜中沉积条件对薄膜织构的影响①

闫鹏勋, 张玉娟, , 吴志国, 张伟伟, 李鑫, 阎鹏勋, 刘维民, 薛群基

中国有色金属学报,2004,14(8):1265~1268,-0001,():

-1年11月30日

摘要

在室温条件下,利用自行设计的平面“S”形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响。对薄膜的表面形貌进行观察,(θ~2θ)和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析,对薄膜进行了电子衍射研究。结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为20~70nm,且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生(111)面的择优取向,且(111)晶面与膜表面平行,而在高氩气流量的情况下,(200)和(220)面在薄膜平面也发生了定向排列。

氮化钛, 磁过滤等离子体, 薄膜织构

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2005年07月18日

【期刊论文】阳极弧等离子体制备镍纳米粉①

闫鹏勋, 魏智强, , 温贤伦, 王君, 吴志国, 徐建伟, 吴现成

中国有色金属学报,2003,13(5):1136~1140,-0001,():

-1年11月30日

摘要

采用自行研制的实验装置,用阳极弧放电等离子体方法制备了高纯镍纳米粉末。利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和相应选区电子衍射(ED)、BET吸附等对样品的成分、形貌、晶体结构、晶格常数、粒度及其分布、比表面积进行了分析。建立了关于金属超微粒产生过程的近似模型,分析了纳米粉的形成和生长机制,并对整个工艺过程影响纳米粉性能的各种工艺参数进行了理论探讨。结果表明:所制得的镍纳米粉纯度高,晶格结构与相应的致密体相同,为fcc相结构,平均粒径为47nm,粒径范围在20~70nm,比表面积为14.23m2/g,呈规则的球形链状分布,并发现纳米晶体的晶格常数发生膨胀。

阳极弧等离子体, 纳米粉, 晶格膨胀, 生长机制

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2005年07月19日

【期刊论文】The effect of annealing on the electrochromic properties of microcrystalline NiOx

闫鹏勋, S.R. Jiang *, B.X. Feng, P.X. Yan, X.M. Cai, S.Y. Lu

Applied Surface Science 174(2001)125-131,-0001,():

-1年11月30日

摘要

The effect of annealing on the electrochromic (EC) properties of nickel oxide (NiOx, x>1) films prepared by reactiverf sputtering is studied with electrochemical measurements, optical transmittance analysis, scanning tunneling microscope (STM), X-ray diffraction (XRD) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Research results show that EC properties of NiOx films can be changed greatly by annealing. The mechanism for the change of electrochromic properties was discussed in details.

NiOx films, Annealing, Electrochromic properties

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2005年07月18日

【期刊论文】工艺参数对阳极弧放电等离子体制备镍纳米粉的影响

闫鹏勋, 魏智强, , 温贤伦, 王君, 吴志国, 徐建伟, 吴现成

稀有金属材料与工程,33(3):305~308,-0001,():

-1年11月30日

摘要

在Ar惰性保护气氛中,采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末。研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响。利用XRD、TEM 对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定。结果表明,适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20nm~100nm的纳米粉,在其它工艺参数不变条件下,气压升高或电弧电流增大,都会使粒度增大,产率提高。

阳极等离子体, 纳米粉, 粒度, 工艺参数

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2005年07月18日

【期刊论文】纳米结构TiN薄膜的制备及其摩擦学性能*

闫鹏勋, 张玉娟, , 吴志国, 阎鹏勋, 薛群基

材料研究学报,2004,18(3):280~284,-0001,():

-1年11月30日

摘要

在室温条件下,用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜。分析了薄膜的表面形貌、晶体结构,测量了TiN薄膜的硬度,研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响。结果表明,用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为50~80nm;随着基底偏压的增大薄膜发生(111)面的择优取向。随着偏压的提高,薄膜的颗粒度稍有增大,摩擦系数增大,偏压提高,晶面在较密排的(111)面有强烈的择优取向,硬度也有所增大。在其它条件相同的情况下载荷越大,摩擦系数越大。不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构TiN薄膜具有较低的摩擦系数(0.14~0.25)。

无机非金属材料,, 氮化钛,, 磁过滤等离子体,, 纳米薄膜,, 摩擦学

合作学者

  • 闫鹏勋 邀请

    兰州大学,甘肃

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