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2005年07月18日

闫鹏勋，韩修训，阎鹏勋，阎逢元，刘维民

摩擦学学报，23（1）：5～9，-0001，（）：

-1年11月30日

利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置在单晶硅基底上制备了类金刚石涂层，采用原子力显微镜和纳米压痕仪测定了其表面形貌及硬度，在DF2PM型动2静摩擦系数精密测定仪上考察了涂层在不同载荷及湿度下同GCr15钢对摩时的摩擦性能。结果表明，在不同环境湿度条件下DLC涂层的摩擦性能明显不同，这主要归因于转移膜形成机理的不同；在3N载荷下，DLC涂层同GCr15钢对摩时的摩擦系数相对较小，且较为稳定；当环境湿度增大至100%时，摩擦系数显著增大，并发生类似于含氢类金刚石涂层的灾难性磨损。

磁过滤等离子体，类金刚石涂层，摩擦性能

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2005年07月18日

【期刊论文】磁过滤等离子体制备TiN薄膜中沉积条件对薄膜织构的影响①

闫鹏勋，张玉娟，，吴志国，张伟伟，李鑫，阎鹏勋，刘维民，薛群基

中国有色金属学报，2004，14（8）：1265～1268，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

在室温条件下，利用自行设计的平面“S”形磁过滤等离子体设备，在（111）面单晶硅上制备TiN薄膜，通过改变基底偏压和反应气体成分，即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度，从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响。对薄膜的表面形貌进行观察，（θ～2θ）和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析，对薄膜进行了电子衍射研究。结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑，颗粒尺寸为20～70nm，且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生（111）面的择优取向，且（111）晶面与膜表面平行，而在高氩气流量的情况下，（200）和（220）面在薄膜平面也发生了定向排列。

氮化钛，磁过滤等离子体，薄膜织构

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2005年07月18日

【期刊论文】工艺参数对阳极弧放电等离子体制备镍纳米粉的影响

闫鹏勋，魏智强，，温贤伦，王君，吴志国，徐建伟，吴现成

稀有金属材料与工程，33（3）：305～308，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

在Ar惰性保护气氛中，采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末。研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响。利用XRD、TEM 对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定。结果表明，适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20nm～100nm的纳米粉，在其它工艺参数不变条件下，气压升高或电弧电流增大，都会使粒度增大，产率提高。

阳极等离子体，纳米粉，粒度，工艺参数

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2005年07月19日

【期刊论文】多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比

闫鹏勋，张玉娟，，吴志国，张伟伟，阎鹏勋，刘维民，薛群基

摩擦学学报，24（6）：498～502，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

分别采用多弧离子镀（MAIP）和带有平面“S”形过滤管的磁过滤阴极弧设备（FCAP）在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜；采用往复式球2盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能；采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其元素面分布。结果表明：采用FCAP技术制备的薄膜表面光滑、缺陷少、普遍具有明显的（111）面择优取向；而采用MAIP技术制备的薄膜表面存在较多大小不一的颗粒和孔洞，且无明显取向。在较低载荷下，采用FCAP薄膜表现出较好的抗磨性能，其磨斑表面存在沉积的TiN磨屑；而采用MAIP制备的薄膜磨斑表面无转移沉积磨屑，摩擦系数较高。

磁过滤等离子体沉积，多弧离子镀，氮化钛薄膜，摩擦学性能

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2005年07月19日

【期刊论文】在室温条件下制备高质量纳米结构TiN薄膜研究

闫鹏勋，吴志国，徐建伟，张玉娟，，张伟伟，刘伟民

无机材料学报，2004，19（6）：1386～1390，-0001，（）：

-1年11月30日

摘要

在室温条件下，利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜。运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征，利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量。结果表明：TiN薄膜表面光滑，致密，无柱状晶；TiN晶粒的平均尺寸为50nm，薄膜硬度达50GPa，是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多；XRD衍射试验表明，纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动，TiN晶粒沿（111）择优生长。

TiN，磁过滤等离子体，纳米薄膜

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